開(kāi)放平臺(tái)服務(wù)
研發(fā)流片服務(wù)
馳拓科技擁有國(guó)內(nèi)唯一、國(guó)際上居于先進(jìn)水平的28nm 12英寸后段工藝線，具備從技術(shù)研發(fā)到產(chǎn)品小規(guī)模量產(chǎn)的全套能力，可為客戶提供全方位的流片及工藝開(kāi)發(fā)服務(wù)，包括：
1. 無(wú)圖案的介質(zhì)薄膜沉積：如TEOS，SiN，LTO等。
2. 無(wú)圖案的金屬薄膜沉積：如Ta/TaN，Ti/TiN，W/WN，Al，Cu，Co，CoFe，Ru等。
3. 光刻材料涂布與光刻材料驗(yàn)證：如光刻膠、BARC、SOC等。
4. 表面平坦化：可支持Cu/ILD CMP, 工藝能力可以cover到28nm。支持OX/Cu/SiN/Ta/TaN/W等單層材料研磨。
5. 無(wú)圖案的結(jié)構(gòu)片加工：根據(jù)合作伙伴需求，提供多層膜的結(jié)構(gòu)片加工及在線工藝檢測(cè)服務(wù)。
6. 圖案化的結(jié)構(gòu)片加工：根據(jù)客戶需求，提供包含28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)以上的圖案設(shè)計(jì)、光罩設(shè)計(jì)、圖案化加工及在線工藝檢測(cè)等多種服務(wù)和支持。
7. MRAM器件客戶定制化研發(fā)：根據(jù)客戶需求，提供定制化的MRAM器件研發(fā)。
